简评：怎么看上海微电子所“光刻机投影物镜及光刻机”专利。

买股票的肯定熟悉图1了，这几天满天飞，带动了一波“概念股”行情。从专业技术的角度谈谈上海微电子的光刻机。

光刻机的技术经历了不同的技术路径，现在尚存的主要是这三种：

ASML的极紫外EUV光刻机，这种技术只有它独家拥有，目前号称已经做到了3nm制程。

ArFi光刻机，使用深紫外线光源，技术极限是做到45nm。目前还有多家企业制造，比较主流的是日本尼康，用于中低端消费类芯片的制造。

ArFDry光刻机，也使用193nm的深紫外线光源，但介质是空气而不是水，所以技术的极限是55纳米。目前的主流制造企业有日本的佳能。

上海微电子所目前发布的是ArFDry光刻机，最新的报告是型号为SSA600/20的光刻机达到了90纳米制程。图1的专利，根据时间判断，应该就是用于该型号的。

90纳米的芯片出现于本世纪初，曾经大大推动了非智能手机的小型化进步，最后一批采用该技术芯片的手机可能是2004-05年间的诺基亚手机，图2这样的。

无论如何，这是国产电子基础设备的一个重要进展，值得祝贺。接下来，提高良品率是同样艰巨的挑战。对于个人投资者来说，考虑其概念的投资价值，综上所述，还是要冷静判断，风险自担。至于听人扯别的，你就不如节约点时间脚踏实地做点有意义的事情、陪陪家人或者学点正经知识吧。

顺便回答粉丝的一个问题：现在一个设备里面用到或者申请的专利经常数以万计，一些专利的意义在于改进已有的工艺或者技术，并不会影响已经采用相关工艺和技术的设备的生产与开发，更不会影响完全不相关的其他技术路线上、只是名称听起来一样的设备的研制与生产。

再次推荐延伸阅读我几年前的旧作，被几年时间反复证明没什么需要改动的文章：要怎么样才能造出一部苹果手机？兼谈光刻和光刻机

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